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國內首條超高純鋁濺射靶基材生產線實現(xiàn)批量生產

2020年02月27日 10:30 8542次瀏覽 來源:   分類: 鋁資訊

          打破國外壟斷,為中國半導體產業(yè)保駕護航

      國內首條超高純鋁濺射靶基材生產線實現(xiàn)批量生產

     在全國人民抗擊新冠病毒肺炎疫情關鍵時期,新疆眾和股份有限公司一手抓疫情防控,一手抓生產經營。日前,該公司成功開發(fā)出了國內領先的全套超高純鋁濺射靶基材生產工藝和技術,成為獨立于歐洲海德魯鋁業(yè)公司、日本住友化學體系公司外的第三條完整產業(yè)鏈。通過多方驗證,產品全面符合市場要求,成功實現(xiàn)了批量供貨。

    高純?yōu)R射靶材是伴隨著全球半導體工業(yè)的發(fā)展而興起的,集成電路產業(yè)成為目前高純?yōu)R射靶材的主要應用領域之一,半導體用靶材基材制備被譽為材料制備工業(yè)王冠上明珠。

一段時間以來,中國擁有鋁基生產濺射靶材所需的各種基礎礦源,但金屬提純技術主要由美國、日本、挪威、法國等國家掌握。國內靶材廠商主要通過從國外進口獲得高純金屬及基材供應,每年達數(shù)千噸,價格較高且不能及時交貨。

    新疆眾和作為我國鋁電子新材料研制企業(yè),是國內最早規(guī)模開發(fā)、生產高純鋁的企業(yè),積累了30余年的高純鋁研發(fā)生產經驗。在公司上下同心的全力支持下,公司破釜沉舟,克服重重困難,開始了十余年的超高純鋁濺射靶基材研發(fā)之路,通過與集成電路相關企業(yè)承擔國家專項項目聯(lián)合研發(fā),決定建設超高純鋁濺射靶基材中試工廠,相繼克服了超高純鋁(5N5)規(guī)模生產過程中雜質元素污染、產品表面質量及內部晶粒組織細化控制、氫含量必須小于0.1ppm、晶粒取向控制等一系列難題,最終打通了超高純鋁濺射靶基材的工藝技術,成為國內唯一一家可以規(guī)模生產超高純鋁濺射靶基材企業(yè),鋁純度可達到99.9995%(5N5)。同時,新疆眾和、東北大學聯(lián)合申報的“潔凈、細晶5N5超高純鋁的制備關鍵技術及應用”項目還榮獲2019年中國有色金屬工業(yè)科學技術獎一等獎。

新疆眾和  劉建昊、席德雄

責任編輯:王慧

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