科技部發(fā)布新材料技術(shù)超高純鋁靶材項(xiàng)目申請(qǐng)
2008年05月13日 0:0 4638次瀏覽 來源： 中國(guó)有色網(wǎng) 分類： 鋁資訊
據(jù)科技部消息：物理氣相沉積（PVD）是半導(dǎo)體芯片和TFT-LCD生產(chǎn)過程中最關(guān)鍵的工藝之一，PVD用濺射金屬靶材是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)及TFT-LCD制備加工過程中最重要的原材料之一，濺射金屬靶材中用量最大的是超高純鋁和超高純凈鋁合金靶材。
由此可見，研發(fā)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的大尺寸超高純鋁靶材的制造關(guān)鍵技術(shù)，開發(fā)出滿足半導(dǎo)體行業(yè)及TFT-LCD產(chǎn)業(yè)需求的超高純鋁靶材產(chǎn)品，對(duì)于我國(guó)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展具有重要意義。
為公正、公平、公開地選擇項(xiàng)目承擔(dān)單位，充分調(diào)動(dòng)相關(guān)企業(yè)、科研院所及高等院校的積極性，集成全國(guó)在鋁的精煉提純、大尺寸鋁板形變加工及濺射金屬靶材專業(yè)制備等領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)研發(fā)力量開展本項(xiàng)目的工作，科技部發(fā)布了《國(guó)家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃（863計(jì)劃）新材料技術(shù)領(lǐng)域“大尺寸超高純鋁靶材的制造技術(shù)”重點(diǎn)項(xiàng)目申請(qǐng)指南》。
責(zé)任編輯：LY
如需了解更多信息，請(qǐng)登錄中國(guó)有色網(wǎng)：www.fu-jin.com了解更多信息。
中國(guó)有色網(wǎng)聲明：本網(wǎng)所有內(nèi)容的版權(quán)均屬于作者或頁(yè)面內(nèi)聲明的版權(quán)人。
凡注明文章來源為“中國(guó)有色金屬報(bào)”或 “中國(guó)有色網(wǎng)”的文章，均為中國(guó)有色網(wǎng)原創(chuàng)或者是合作機(jī)構(gòu)授權(quán)同意發(fā)布的文章。
如需轉(zhuǎn)載，轉(zhuǎn)載方必須與中國(guó)有色網(wǎng)（ 郵件：cnmn@cnmn.com.cn 或 電話：010-63971479）聯(lián)系，簽署授權(quán)協(xié)議，取得轉(zhuǎn)載授權(quán)；
凡本網(wǎng)注明“來源：“XXX（非中國(guó)有色網(wǎng)或非中國(guó)有色金屬報(bào)）”的文章，均轉(zhuǎn)載自其它媒體，轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息，并不構(gòu)成投資建議，僅供讀者參考。
若據(jù)本文章操作，所有后果讀者自負(fù)，中國(guó)有色網(wǎng)概不負(fù)任何責(zé)任。
